光学膜厚仪的薄膜光谱反射系统，可以很简单快速地获得薄膜的厚度及n&k，采用r-θ极坐标移动平台，可以在几秒钟的时间内快速的定位所需测试的点并测试厚度，可随意选择一种或极坐标形、或方形、或线性的图形模式，也可以编辑自己需要的测试点。针对不同的晶圆尺寸，盒对盒系统可以很容易的自动转换，匹配当前盒子的尺寸。49点的分布图测量只需耗时约45秒。
光学膜厚仪的主要特点：
*基片折射率和消光系数测量；
*薄膜厚度测量，平均值和标准偏差分析；
*薄膜折射率和消光系数测量；
*适用于不用材质和厚度的薄膜、涂层和基片；
*测试数据输出和加载；
*直接Patterned或特征机构的试样测试；
*可用于实时在线薄膜厚度、折射率监测；
*波长范围可选；
*系统配备强大的光学常数库和材料数据库，便于测试和数据分析。
光学膜厚仪广泛应用于各种薄膜、涂层光学常数和厚度的测量，设备分为在线和离线两种工作模式，操作便捷，几秒钟内即可完成测量和数据分析，USB 连接计算机控制；
薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、且快速的光学薄膜厚度测量技术，我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。
